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名  稱:鈦
符  號:Ti
原子量:47.88
熔  點:1668℃
沸  點:3277℃
密  度:4.506g/cm3

    高純鈦是指純度在4N以上的金屬鈦,主要製備方法有:碘化法,熔鹽電解法,電子束熔煉法,電子束區熔法等。
    高純鈦主要用於半導體材料,濺射靶材,合金材料及超高真空裝置中的吸氣材料。
    我公司可提供4N5,5N高純鈦,采用美國進口原料。主要用於生產高純度濺射靶材和金屬顆粒,用於高純度合金熔煉,蒸發鍍膜等領域。
名稱符號純度狀態規格
高純鈦Ti4N 4N5 5N 靶材根據要求定製
2N5粉末根據要求定製
3N5~5N顆粒 棒狀φ3*3mm 6*6mm 可定製
3N5~5N絲狀φ0.1-5mm
3N5~5N片狀0.03-10mm
    AG电游可提供鈦氧化物,氮化物及其他化合物靶材,粉末等。
    濺射靶材:二氧化鈦靶材,氮化鈦靶材,鈦酸鍶晶體靶材,鈦酸鋇靶材等
    光學鍍膜材料:二氧化鈦顆粒,五氧化三鈦晶體顆粒等
化合物及合金
氧化鈦TiO2
TiO
Ti3O5
4N靶材 粉末 顆粒 根據要求定製
氮化鈦TiN4N靶材 粉末 顆粒 根據要求定製
硼化鈦TiB22N5靶材 粉末根據要求定製
鈦酸鍶SrTiO34N靶材 顆粒根據要求定製
鈦酸鋇BaTiO34N靶材根據要求定製
鈦鋁合金Ti-Al3N靶材根據要求定製
鈦矽合金Ti-Si3N靶材根據要求定製
鈦鎢合金Ti-W3N5 4N靶材根據要求定製

其他規格及其鈦基合金可定製生產。歡迎來電谘詢

 

 

 

 

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