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磁控濺射儀器的種類

 

直流磁控濺射(DC)與射頻磁控濺射(RF)比較:

    1.直流運用直流電源,射頻運用交流電源(射頻屬於交流範疇,頻率是13.56MHz。AG电游平常的生活用電頻率為50Hz);

    2.二者用途不太一樣,直流磁控濺射一般用於導電型(如金屬)靶材的濺射,射頻一般用於非導電型(如陶瓷)靶材的濺射;   

    3.直流磁控濺射隻能用導電的靶材(靶材表麵在空氣中或者濺射過程中不會形成絕緣層的靶材),並不局限於金屬。譬如,對於鋁靶,它的表麵極易形成不導電的氧化膜層,造成靶表麵電荷積累(靶中毒),嚴重時直流濺射無法進行。這時候,就需要射頻電源。簡單的說,用射頻電源的時候,有一小部分時間是在衝抵靶上積累的電荷,不會發生靶中毒;

    4.交流的設備價格較高,直流的設備相對便宜一些。

 

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